判断题 物理气相沉积或PVD法是通过真空蒸发或真空溅射等物理过程，使金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。

判断题 PVD覆盖层的组织结构同CVD一样。

判断题 PVD沉积温度一般低于600℃，但沉积速度快。