单项选择题
在Dry Etch工程中，Active Etch工艺不会被刻蚀到的Film是（）
A.G-SiNx
B.P-SiNx
C.N+a-SiNx
D.a-Si
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A.N2
B.CO
C.H2
D.CO2 -
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A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber -
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A.Process Chamber
B.Transfer Chamber
C.DSSL
D.Scrubber
